애플의 차세대 아이폰을 위한 지문인식 특허 출헌

USPTO가 최근 발간한 애플의 특허 출원에 의하면, iPhone 5S의 지문 스캐너가 베젤에 장착될 가능성을 암시해 주고 있습니다. 

이미 스마트폰의 지문인식기술은 모토롤라 아트릭스에서 사용된 것으로, 이번 특허 출헌은 센서의 두께를 최소화하고, 기기에 전도성 베젤이 포함되는 지문 스캐너에 관한 것입니다.

이 특허에 따르면 사용자가 센서 표면을 손가락으로 문지르면, 센서는 지문의 얇은 줄무늬를 포착하여 소프트웨어로 지문을 합쳐 인증에 사용할 수 있도록 처리된다고 합니다.

또한 지문인식 스캐너의 단면을 획기적으로 줄일 수 있어 홈버튼이 아닌 아이폰의 사이드 베젤에 장착할 가능성도 높다고 하며, 이 기술은 홈버튼을 통한 지문인식이 될 iPhone 5S보다는 그 이후 세대에 적용될 가능성이 높아 보입니다.

출처 : PhoneArena